Micro/Nano-Machining Research and Education Center, Tohoku University

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設備・装置1F クリーンルーム

目次

1F クリーンルーム

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1 EVG mask aligner 2 EVG接合用基板洗浄 3 EVGプラズマ活性化装置 4 ドラフト 5 二流体洗浄装置 6 スピンコータ、オーブン 7 レーザ描画装置 #1 8 Mask aligner (SUSS) #1 9 Mask aligner (SUSS) #2 10 HMDS処理装置 11 スピンコータ 12 高温乾燥機 13 静電塗布装置 1 ドラフト 1 ドラフト 2 熱酸化炉 3 UV照射機 4 4探針測定器 5 ICP-RIE #3 6 汎用アッシャー 7 プラズマ/オゾンTEOS CVD 8 プラズマTEOS CVD 9 ICP-RIE #1 10 エリプソメータ 11 プラズマSiN-CVD 12 SiNエッチャ 13 SiCN Cat-CVD 14 CCP-RIE #3 15 CCP-RIE #2 16 二周波励起RIE 17 EVG wafer bonder 18 超臨界CO2乾燥装置 19 ICP-RIE #2 20 CCP-RIE #1 21 FAB 22 イオンビームミリング装置 23 接触式段差計 24 イオン注入装置 2 EB描画装置 1 High-temp RF magnetron sputter 2 4元DCスパッタ 3 RF magnetron Sputter (ANELVA #2) 4 RF対向ターゲットスパッタ 5 EB 蒸着 6 ECR ion beam sputter 7 RF magnetron sputter (ANELVA) 8 DC 対向ターゲットスパッタ 9 Wafer bonder (Technofine) 10 RF magnetron sputter (Shibaura) #2 11 ECR sputter 12 RF magnetron sputter (Shibaura) #1 13 ドラフト
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