Micro/Nano-Machining Research and Education Center, Tohoku University

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設備・装置合成、熱処理、ドーピング

目次

合成、熱処理、ドーピング

高温乾燥機

高温乾燥機
メーカー名(型式)ADVANTEC (DRD360DA)
その他使用温度範囲:50℃–650℃
備考

ランプアニール炉

ランプアニール炉
メーカー名(型式)明純技術支援
その他
備考

イオン注入装置

イオン注入装置
メーカー名(型式)ULVAC (IMX-3500)
用途(特徴)半導体ドーパントの注入
主な仕様イオン種:B, P, As、注入エネルギー:5–150 keV
サンプルサイズ最大⌀8 inch
その他
備考

水素アニール炉

水素アニール炉
メーカー名(型式)光洋サーモシステム(Model 200)
用途(特徴)H2アニール処理
主な仕様ガス種:H2, N2
サンプルサイズ⌀2 inch
その他主としてトランジスタプロセスのシンタリング処理
備考

RTA #1

RTA#1
メーカー名(型式)光洋サーモシステム(RLA-1208-V)
用途ソース/ドレイン形成の為のドーパント活性化
プロセスガスAr, N2
導入可能材料Si, SiO2, SiN
サンプルサイズ最大⌀8 inch
備考