Micro/Nano-Machining Research and Education Center, Tohoku University
- 目次
リソグラフィ・露光・描画装置
EB描画装置
種類 | EB描画 |
メーカー名(型式) | 日本電子(JBX-6300SK) |
光源 | EB |
解像度 | 50 nm |
サンプルサイズ | ⌀2 inch, □20 mm |
その他 | |
備考 | |
レーザー描画装置 #1
種類 | レーザ描画 |
メーカー名(型式) | ハイデルベルグ(DWL2000SD) |
光源 | 半導体レーザ(405 nm) |
解像度 | 0.6 μm |
サンプルサイズ | 最大□9 inch |
その他 | マイクロマシニング棟に設置。 |
備考 | |
レーザー描画装置 #2
種類 | レーザ描画 |
メーカー名(型式) | ハイデルベルグ (DWL200) |
光源 | 半導体レーザ(405 nm) |
解像度 | 2 μm |
サンプルサイズ | 最大8 inch |
その他 | ナノマシニング棟に設置。 |
備考 | |
簡易マスク作製装置
種類 | 1/5縮小露光フォトマスク作製機(OHPマスク原版)
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メーカー名(型式) | ナノテック(MM605) |
光源 | 蛍光灯(30 W × 3本) |
解像度 | L/S = 200 μm程度 |
サンプルサイズ | 撮像寸法:59.4 × 59.4 mm |
その他 | マスク:インクジェットでOHPマスク原版作製/エマルジョンマスク、倍率:0.2倍、視野寸法:297 × 297 mm、露光タイマ:99.9 s (0.1 s)
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備考 | |
パターンジェネレータ
種類 | マスク作製機 |
メーカー名(型式) | 日本精工(TZ-310) |
光源 | 水銀ランプ、キセノンランプ |
解像度 | 1 μm |
サンプルサイズ | 2 inch, 5 inch, 7 inch |
その他 | |
備考 | |
Mask aligner (SUSS) #1, #2
種類 | マスクアライナ |
メーカー名(型式) | SUSS microtec (MA6) |
光源 | 水銀ランプ |
解像度 | 1–2 μm |
サンプルサイズ | 最大6 inch |
マスクサイズ | 2–7 inch |
その他 | |
備考 | |
EVG Mask aligner
種類 | マスクアライナ |
メーカー名(型式) | EVグループ(EVG620) |
光源 | 水銀ランプ |
解像度 | 1–2 μm |
サンプルサイズ | □20 mm–6 inch |
マスクサイズ | 2–7 inch |
その他 | ボンドアライメント可。 |
備考 | |
投影露光装置
種類 | 投影露光 |
メーカー名(型式) | Ushio (UX-2003SM-AGG01) |
光源 | 水銀ランプ |
解像度 | 7 μm |
サンプルサイズ | □20 mm, 2 inch, 4 inch |
マスクサイズ | 2–5 inch |
その他 | 露光時にマスクとサンプルはコンタクトしない。段差のある構造(最大50 μm)への露光が可能。 |
備考 | |