Micro/Nano-Machining Research and Education Center, Tohoku University
- 目次
リソグラフィ・露光・描画装置
EB Lithograpy
| 種類 | EB描画 |
| メーカー名（型式） | 日本電子（JBX-6300SK） |
| 光源 | EB |
| 解像度 | 50 nm |
| サンプルサイズ | ⌀2 inch, □20 mm |
| その他 | |
| 備考 | |
Laser Lithography System #1
| 種類 | レーザ描画 |
| メーカー名（型式） | ハイデルベルグ（DWL2000SD） |
| 光源 | 半導体レーザ（405 nm） |
| 解像度 | 0.6 μm |
| サンプルサイズ | 最大□9 inch |
| その他 | マイクロマシニング棟に設置。 |
| 備考 | |
Simple photo-mask maker(MM605AT)
| 種類 | 1/5縮小露光フォトマスク作製機（OHPマスク原版）
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| メーカー名（型式） | ナノテック（MM605） |
| 光源 | 蛍光灯（30 W × 3本） |
| 解像度 | L/S = 200 μm程度 |
| サンプルサイズ | 撮像寸法：59.4 × 59.4 mm |
| その他 | マスク：インクジェットでOHPマスク原版作製／エマルジョンマスク、倍率：0.2倍、視野寸法：297 × 297 mm、露光タイマ：99.9 s (0.1 s)
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| 備考 | |
Mask aligner(SUSS, MA6/BA6)#1,#2
| 種類 | マスクアライナ |
| メーカー名（型式） | SUSS microtec (MA6) |
| 光源 | 水銀ランプ |
| 解像度 | 1–2 μm |
| サンプルサイズ | 最大6 inch |
| マスクサイズ | 2–7 inch |
| その他 | |
| 備考 | |
EVG Mask aligner
| 種類 | マスクアライナ |
| メーカー名（型式） | EVグループ（EVG620） |
| 光源 | 水銀ランプ |
| 解像度 | 1–2 μm |
| サンプルサイズ | □20 mm–6 inch |
| マスクサイズ | 2–7 inch |
| その他 | ボンドアライメント可。 |
| 備考 | |
Spray coater(Delta 80RC)
| メーカー名（型式） | SUSS(Delta 80RC) |
| サンプルサイズ | 8インチ以下が可能
(8インチウェハ以外のサンプルは、8インチウェハにカプトンテープで貼り付けて塗布を行う) |
| その他 | |
| 備考 | |
Mask aligner#3(SUSS, MA8/BA8)
| メーカー名（型式） | SUSS MicroTec MA8/BA8 |
| 光源 | 水銀ランプ
(OSRAM HBO 1000W) |
| 解像度 | 2µm |
| サンプルサイズ | 2/8インチ(ホルダー所有のもの) |
| マスクサイズ | 3/9インチ(ホルダー所有ありのもの) |
| サンプルサイズ | 最小1インチ～最大8インチ |
| その他 | アライメント精度1µm(公称値)
i線フィルタ有り |
| 備考 | |
Lift-off EQP(LOB8)
| メーカー名（型式） | ASAP(LOM8-000-12) |
| サンプルサイズ | 2，4，6，8インチウェハ |
| 主な仕様 | レジスト除去 |
| その他 | |
| 備考 | |
