Micro/Nano-Machining Research and Education Center, Tohoku University

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設備・装置1F クリーンルーム

目次

1F クリーンルーム

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1Fクリーンルーム
1 EVG mask aligner 2 EVG接合用基板洗浄 3 EVGプラズマ活性化装置 4 ドラフト 5 二流体洗浄装置 6 スピンコータ、オーブン 7 レーザ描画装置 #1 8 Mask aligner (SUSS) #1 9 Mask aligner (SUSS) #2 10 HMDS処理装置 11 スピンコータ 12 高温乾燥機 13 静電塗布装置 1 ドラフト 1 ドラフト 2 水素アニール炉 3 熱酸化炉 4 LP-CVD 5 接触式段差計 6 UV照射機 7 4探針測定器 8 RTA #1 9 ICP-RIE #3 10 プラズマ/オゾンTEOS CVD 11 プラズマTEOS CVD 12 ICP-RIE #1 13 エリプソメータ 14 プラズマSiN-CVD 15 O2アッシャ 16 SiNエッチャ 17 SiCN Cat-CVD 18 CCP-RIE #3 19 CCP-RIE #2 20 二周波励起RIE 21 EVG wafer bonder 22 超臨界CO2乾燥装置 23 ICP-RIE #2 24 有磁場ICP-RIE 25 CCP-RIE #1 26 FAB 27 イオンビームミリング装置 28 イオン注入装置 29 UHV-CVD 30 汎用アッシャー 1 FE-SEM 2 EB描画装置 1 High-temp RF magnetron sputter 3 RF magnetron sputter (ULVAC) 4 RF対向ターゲットスパッタ 5 EB 蒸着 6 ECR ion beam sputter 7 RF magnetron sputter (ANELVA) 8 DC 対向ターゲットスパッタ 9 Wafer bonder (Technofine) 10 RF magnetron sputter (Shibaura) #2 11 ECR sputter 12 RF magnetron sputter (Shibaura) #1 13 ドラフト 14 ランプアニール炉
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