表面処理
UV exposure
| メーカー名（型式） | Samco (UV-T) |
|---|---|
| 用途 | UV + O3による有機物除去、UV + N2によるUVキュア |
| 主な仕様 | 光源：低圧水銀ランプ（253.7, 184.9 nm)、ステージ温度設定範囲：RT–300 ℃ |
| プロセスガス | O3, O2, N2 |
| サンプルサイズ | 最大⌀200 mm、厚み2 mm以下 |
| 備考 |
Two-fluid cleaner
| メーカー名（型式） | アクテス （ADE-3000S） |
|---|---|
| 用途 | 水または有機溶媒（IPA等）による二流体噴霧洗浄装置 |
| 主な仕様 | ウェハ回転数：0–3000 rpm、ウェハ揺動角度：0–40° |
| サンプルサイズ | □20 mm or 4 inch |
| 備考 |
HDMS treatment system
| メーカー名（型式） | 自作 |
|---|---|
| 用途 | シリコンウエハ表面にOFPR等のレジストを塗布する際に、OAP滴下よりも適切な表面処理ができる。硫酸過水洗浄以降の一連処理を大気に触れずに扱えるため、レジスト塗布不良の可能性が小さくなる。 |
| サンプルサイズ | □20 mm–4 inch |
| 備考 |
Supercritical CO2 drier
| メーカー名（型式） | SC Fluids (CPD1100) |
|---|---|
| 用途 | 超臨界を用いたMEMSデバイスの乾燥 |
| サンプルサイズ | 最大4 inch |
| 備考 |
Excimer exposure
| メーカー名（型式） | （株）エム・ディ・コム （MEIRA-M-1-330） |
|---|---|
| 用途 | 微細有機物の洗浄・分解 親水性改質・密着性改善 窒化膜・酸化膜の生成 塗料のマット処理（硬化） |
| 主な仕様 | 波長:172nm 1灯･50mW/㎠仕様 ステージ搬送照射式 窒素・CDA導入可 照射距離：2～23mmまで |
| サンプルサイズ | 最大300mm□ 基板厚みは23mmまで処理可 |
| その他 | 試料搬送ステージにより、最大300mm□まで均一に照射が可能 |
| 備考 |