Micro/Nano-Machining Research and Education Center, Tohoku University

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設備・装置形状・形態観察、分析

目次

形状・形態観察、分析

Thermal Decomposition Spectroscopy

Thermal Decomposition Spectroscopy
メーカー名(型式)ESCO (WA1000)
用途Si, ガラス基板の昇温脱離ガス分析
適用例SiO2へのH2Oの吸着量と脱離温度分析,SiへのH+の吸着量と脱離温度分析
サンプルサイズ1 × 1 cm
その他有機材料の受け入れ不可,有機汚染されたサンプルの受け入れ不可
備考汚染管理が必要.使用前に装置管理責任者(田中秀治研)に要相談

TG/DTA

TG/DTA装置
メーカー名(型式)SII (TG/DTA7300)
サンプルサイズ最大試料量 200 mgまたは容器内に収容できる量
その他測定温度範囲:室温~1500℃,TG測定範囲:±400 mg,TG感度:0.2 μg,DTA測定範囲:±1000 μV ,DTA感度:0.06μV
備考

SEM

SEM
メーカー名(型式)SEM: 日立ハイテク(SU-70)、EDX: Oxford (AZtec Energy X-Max)
用途サンプルの微細構造観察
サンプルサイズ最大⌀6 inch
適用例nmオーダーの微細形状観察、EDXによる元素分析
主な仕様電子銃:ZrO/Wショットキーエミッション形電子銃、加速電圧:0.5–30 kV
備考

IR inspection camera

赤外接合評価装置
メーカー名(型式)モリテックス(IRise)
用途サンプルの内部検査
サンプルサイズ最大⌀8 inch
適用例接合サンプルの接合界面評価
主な仕様モニタ倍率:33–1760倍
その他画像貼り合わせでウェハ全体一括評価可能。
備考

ESCA

ESCA 分析装置
メーカー名(型式)アルバックファイ(ESCA1600)
用途試料表面の元素分析
サンプルサイズ最大⌀2 inch
適用例試料表面の組成分析、化学結合状態評価
主な仕様X線源:Mg, Al(モノクロではない)
その他Arエッチングで深さ方向分析可能
オージェ電子分光測定
備考

Surface profilometer

接触式段差計
メーカー名(型式)小坂研究所(ET200)
用途試料の表面形状測定(線分析)
サンプルサイズ⌀160 mm × 厚み48 mm
適用例エッチング後のSiウェハの形状測定
主な仕様高さ分解能:0.1 nm、横方向分解能:0.1 μm
備考

Ellipsometer(UVISEL)

エリプソメーター
メーカー名(型式)HORIBA JOBIN YVON (UVISEL-LT)
用途膜厚分析、光学定数(n, k)分析、面内分布測定
サンプルサイズ最大⌀8 inch
適用例SiOX層の膜厚および屈折率を測定すること
主な仕様波長:260–2100 nm、【光源】Xeランプ(75 W)
その他紫外から近赤外波長まで対応。電動ステージによる自動面内分布測定。
備考

Ultraviolet spectroscopic ellipsometer(M-2000D-Tm)

紫外分光エリプソメーター
メーカー名(型式)J.A. Woollam (M-2000D)
用途薄膜の膜厚、光学定数測定
サンプルサイズ最大□5 inch
適用例SiO2膜の膜厚測定
主な仕様測定波長範囲:193–1000 nm
備考

FT-IR

全真空顕微 FT-IR
メーカー名(型式)日本分光(本体部:FT/IR-6300、顕微部:IRT-7000)
用途サンプルの赤外分光測定
サンプルサイズ⌀4 inch程度(測定方法により異なる)
適用例薄膜の膜質分析
主な仕様透過、反射、ATR、RAS、真空状態での測定、顕微測定可能。
備考

UV/Vis/IR spectrometer

紫外可視近赤外分光光度計
メーカー名(型式)日本分光(V-570)
用途サンプルの吸光度測定
サンプルサイズ最大⌀2 inch程度
適用例薄膜の吸光度測定
主な仕様測定波長範囲:190–2500 nm、対象サンプル:固体、液体、測定方法:透過測定、反射測定
備考

XRD#1(D8 ADVANCE)

XRD
メーカー名(型式)Bruker (D8 ADVANCE)
用途サンプルの結晶構造評価、θ/2θ測定、Rocking curve測定、極点図測定、残留応力測定等
サンプルサイズ最大⌀2 inch程度
主な仕様2次元検出器による2次元X線回折パターンの取得も可能。
備考

Olympus SPM

走査型プローブ顕微鏡(Olympus)
メーカー名(型式)オリンパス(NV-2000)
用途微小領域の表面形状像や導電性像の取得
サンプルサイズ⌀20 mm以内を推奨
適用例金属膜表面の観察。
その他データの取り出しはMOドライブであり、ファイルも特殊形式。
備考

SPM (Shimazu, 9500J2)

走査型プローブ顕微鏡(Shimazu)
メーカー名(型式)島津製作所(SPM9500-J2)
用途(特徴)微小領域の表面形状像や導電性像の取得
サンプルサイズ⌀15 mm以内
適用例金属膜表面の観察。
その他制御ボードが故障しており、修理もできないため動作が不安定。
備考

UHV-STM & AFM

UHV-STM&AFM
メーカー名(型式)日本電子(JSTM-4500XT)
用途表面形状測定
サンプルサイズ2 × 5 mm程度
適用例原子分解能を有する測定(STM)
その他装置の操作にはかなりの知識とトレーニングを必要とする。
備考

XRD#2(D8 ADVANCE)

XRD(D8 ADVANCE)
メーカー名(型式)Bruker(D8 ADVANCE)
用途サンプルの結晶構造評価、θ/2θ測定
最大定格出力(最大管電圧、管電流)3kW(60kV-60mA)

Scanning acoustic microscope (KSI)

Scanning acoustic microscope (KSI)
メーカー名(型式)KSI(V-8A)
用途接合界面観察
主な仕様水に浸漬
サンプルサイズ12インチ角以内
その他
備考

Contact angle meter(Kyowa)

Contact angle meter(Kyowa)
メーカー名(型式)Kyowa(MCA-3/J)
用途接触角測定
主な仕様高速カメラ
フレームレート:60fps
サンプルサイズ20mm角以内
その他
備考

3D Laser Scanning Microscope(VK-X3000/X3050)

3D Laser Scanning Microscope(VK-X3000/X3050)
メーカー名(型式)Keyence – VK-X3000
用途3D surface observation
サンプルサイズ4inch
その他3D observation, thin film thickness, roughness measurement
備考

AFM(Nano Wizard NSK)

AFM(Nano Wizard NSK)
メーカー名(型式)JPK instrument(Nano Wizard NSK)
用途Surface observation
主な仕様Contact mode, intermittent mode, phase correction
サンプルサイズ4inch
その他Conductive needle available
備考

Contact angle meter(DMe201)

Contact angle meter(DMe201)
メーカー名(型式)Kyowa – DMe201
用途Contact angle measurement
サンプルサイズ4inch
その他Surface tension
備考

Microscope(KH-7700)

Microscope(KH-7700)
メーカー名(型式)HiROX KH-7700
用途Surface observation
サンプルサイズ4inch
その他
備考

Table top SEM(JCM-500)

Table top SEM(JCM-500)
メーカー名(型式)JEOL Neoscope-N JCM-500
用途Surface observation
サンプルサイズ4inch
その他
備考

Gas Chromatograph#1(GC-14B)

Gas Chromatograph#1(GC-14B)
メーカー名(型式)SHIMADZU(GC-14B)
その他
備考

Gas Chromatograph#2(GC-2014AF)

Gas Chromatograph#2(GC-2014AF)
メーカー名(型式)SHIMADZU(GC-2014AF)
その他
備考