Micro/Nano-Machining Research and Education Center, Tohoku University
- 目次
表面処理
UV照射機
メーカー名(型式) | Samco (UV-T) |
用途 | UV + O3による有機物除去、UV + N2によるUVキュア |
主な仕様 | 光源:低圧水銀ランプ(253.7, 184.9 nm)、ステージ温度設定範囲:RT–300 ℃ |
プロセスガス | O3, O2, N2 |
サンプルサイズ | 最大⌀200 mm、厚み2 mm以下 |
備考 | |
二流体洗浄装置
メーカー名(型式) | アクテス (ADE-3000S) |
用途 | 水または有機溶媒(IPA等)による二流体噴霧洗浄装置 |
主な仕様 | ウェハ回転数:0–3000 rpm、ウェハ揺動角度:0–40° |
サンプルサイズ | □20 mm or 4 inch |
備考 | |
HMDS処理装置
メーカー名(型式) | 自作 |
用途 | シリコンウエハ表面にOFPR等のレジストを塗布する際に、OAP滴下よりも適切な表面処理ができる。硫酸過水洗浄以降の一連処理を大気に触れずに扱えるため、レジスト塗布不良の可能性が小さくなる。 |
サンプルサイズ | □20 mm–4 inch |
備考 | |
超臨界CO2乾燥装置
メーカー名(型式) | SC Fluids (CPD1100) |
用途 | 超臨界を用いたMEMSデバイスの乾燥 |
サンプルサイズ | 最大4 inch |
備考 | |