合成、熱処理、ドーピング
学外者利用可能な装置については備考欄に記載があります。
高温乾燥機
| メーカー名（型式） | ADVANTEC (DRD360DA) |
|---|---|
| その他 | 使用温度範囲：50℃–650℃ |
| 備考 |
ランプアニール炉
| メーカー名（型式） | 明純技術支援 |
|---|---|
| その他 | |
| 備考 |
イオン注入装置
| メーカー名（型式） | ULVAC (IMX-3500) |
|---|---|
| 用途（特徴） | 半導体ドーパントの注入 |
| 主な仕様 | イオン種：B, P, As、注入エネルギー：5–150 keV |
| サンプルサイズ | 最大⌀8 inch |
| その他 | |
| 備考 |
水素アニール炉
| メーカー名（型式） | 光洋サーモシステム（Model 200） |
|---|---|
| 用途（特徴） | H2アニール処理 |
| 主な仕様 | ガス種：H2, N2 |
| サンプルサイズ | ⌀2 inch |
| その他 | 主としてトランジスタプロセスのシンタリング処理 |
| 備考 |
RTA #1
| メーカー名（型式） | 光洋サーモシステム（RLA-1208-V） |
|---|---|
| 用途 | ソース/ドレイン形成の為のドーパント活性化 |
| プロセスガス | Ar, N2 |
| 導入可能材料 | Si, SiO2, SiN |
| サンプルサイズ | 最大⌀8 inch |
| 備考 | 学外者利用可能 |