合成、熱処理、ドーピング
高温乾燥機
メーカー名(型式) | ADVANTEC (DRD360DA) |
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その他 | 使用温度範囲:50℃–650℃ |
備考 |
ランプアニール炉
メーカー名(型式) | 明純技術支援 |
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その他 | |
備考 |
イオン注入装置
メーカー名(型式) | ULVAC (IMX-3500) |
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用途(特徴) | 半導体ドーパントの注入 |
主な仕様 | イオン種:B, P, As、注入エネルギー:5–150 keV |
サンプルサイズ | 最大⌀8 inch |
その他 | |
備考 |
水素アニール炉
メーカー名(型式) | 光洋サーモシステム(Model 200) |
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用途(特徴) | H2アニール処理 |
主な仕様 | ガス種:H2, N2 |
サンプルサイズ | ⌀2 inch |
その他 | 主としてトランジスタプロセスのシンタリング処理 |
備考 |
RTA #1
メーカー名(型式) | 光洋サーモシステム(RLA-1208-V) |
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用途 | ソース/ドレイン形成の為のドーパント活性化 |
プロセスガス | Ar, N2 |
導入可能材料 | Si, SiO2, SiN |
サンプルサイズ | 最大⌀8 inch |
備考 |