ビームライン

高速中性子実験室では6本のビームラインを有しています。現在、全てのビームラインをユーザー利用に開放しています。

  • -30度ライン:Submili Beam Line
  • -15度ライン:HighCurrnet Microbeam Line
  • 0度ライン:For adjustment
  • +15度ライン:High Resolution Micro Beam Line
  • +30度ライン:Neautron Beam Line
  • +45度ライン:Material Irradiation Line

各ビームラインの詳細を知りたい場合は個別にお問い合わせください。


-30°ライン

<ビームラインの概要>
サブミリビームを使用した実験を行うことができます。XY-scannerを備えていいてスキャン範囲は数センチ角です。ターゲットホルダーはモーターによりY方向を動かすことできます。また、ターゲットホルダーはチラーにより冷却することができます。

<現在の主な利用>
主に高温超電導線材の陽子線照射実験のために利用されています。過去にはサブミリビームを使用した真空PIXE・大気PIXEなどのイオンビーム実験も行っています。


-15°ライン

<ビームラインの概要>
High-Currentマイクロビームラインです。ビーム径は1.0*1.0µm^2、ビームカレントは300pA程度です。マイクロビームラインの初号機である+15度ラインの設計思想をベースにして大電流化を図っています。ターゲットチャンバーに結晶分光器が備わっています。 ターゲット上のスキャン範囲は最大1000µm×1000µmの領域です。

<現在の主な利用>
High-Resolution PIXEによる化学状態分析を行うことが出来ます。


+15°ライン

<ビームラインの概要>
High Resolutionマイクロビームラインです。 ビーム径は0.4*0.4µm^2、ビームカレントは数十pA程度です。ターゲット上のスキャン範囲は最大1000µm×1000µmの領域です。

<現在の主な利用>
イオンビーム分析実験がメインの利用です。マイクロPIXE、RBS、STIM等を行うことができます。

+30ライン

<現在の主な利用>
中性子発生ラインです。詳しくは中性子場のページをご覧ください。


+45 ライン

<現在の主な利用>
材料照射ラインです。