高速中性子実験室では6本のビームラインを有しています。現在、全てのビームラインをユーザー利用に開放しています。

• -30度ライン：Submili Beam Line
• -15度ライン：HighCurrnet Microbeam Line
• 0度ライン：For adjustment
• +15度ライン：High Resolution Micro Beam Line
• +30度ライン：Neautron Beam Line
• +45度ライン：Material Irradiation Line

各ビームラインの詳細を知りたい場合は個別にお問い合わせください。

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-30°ライン

＜ビームラインの概要＞
サブミリビームを使用した実験を行うことができます。XY-scannerを備えていいてスキャン範囲は数センチ角です。ターゲットホルダーはモーターによりY方向を動かすことできます。また、ターゲットホルダーはチラーにより冷却することができます。

＜現在の主な利用＞
主に高温超電導線材の陽子線照射実験のために利用されています。過去にはサブミリビームを使用した真空PIXE・大気PIXEなどのイオンビーム実験も行っています。

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-15°ライン

＜ビームラインの概要＞
High-Currentマイクロビームラインです。ビーム径は1.0*1.0µm^2、ビームカレントは300pA程度です。マイクロビームラインの初号機である+15度ラインの設計思想をベースにして大電流化を図っています。ターゲットチャンバーに結晶分光器が備わっています。 ターゲット上のスキャン範囲は最大1000µm×1000µmの領域です。

＜現在の主な利用＞
High-Resolution PIXEによる化学状態分析を行うことが出来ます。

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+15°ライン

＜ビームラインの概要＞
High Resolutionマイクロビームラインです。 ビーム径は0.4*0.4µm^2、ビームカレントは数十pA程度です。ターゲット上のスキャン範囲は最大1000µm×1000µmの領域です。

＜現在の主な利用＞
イオンビーム分析実験がメインの利用です。マイクロPIXE、RBS、STIM等を行うことができます。

+30ライン

＜現在の主な利用＞
中性子発生ラインです。詳しくは中性子場のページをご覧ください。

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+45 ライン

＜現在の主な利用＞
材料照射ラインです。