5th Singapore International NDT Conference & Exhibition(SINCE 2025)
ホリデイ イン シンガポール アトリウム（シンガポール）, 2025年2月27～28日
「Acoustic resonant imaging technique for characterization of photoresist properties depending on hard bake temperature」
キム ヘリン, 燈明 泰成
講演番号 B3.2